Maschere/Filtri

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MASCHERA PIENOFACCIALE 3S STANDARD

 

FILTRI PER MASCHERA PIENOFACCIALE

MASCHERA SEMIFACCIALE ADVANTAGE 200 

                                   

                              

FILTRI ADVANTAGE

P3 (Coppia) EN 143      

A2 (Coppia) EN 141    

A2 (Coppia) En 141 

A2P3 (Coppia) EN 141 

A2B2E1K1P3 (Coppia)EN141 

P2 (10 Coppia) + 2 Adattatori EN 143

 

P1

Casella di testo: Facciale Filtrante antipolvere FFP1 per particelle di polvere tossica di sensibile granulometria, utilizzabile anche in aree con leggera concentrazione di polveri fini non tossiche. Impiego: Lavorazione del legno, edilizia, agricoltura ed industria mineraria.

P1v

 Casella di testo: Facciale Filtrante antipolvere FFP1 con aggiunta di una valvola di espirazione per facilitare la respirazione. Protegge da particelle di polvere tossica di sensibile granulometria, utilizzabile anche in aree con leggera concentrazione di polveri fini non tossiche. Impiego: Lavorazione del legno, edilizia, agricoltura ed industria mineraria.

P2

 Casella di testo: Facciale Filtrante antipolvereFFP2 per particelle tossiche fini e fumi di saldatura leggeri. Impiego: Edilizia, agricoltura ed industria siderurgica (ferro ed acciao).

 

P2v

 Casella di testo: Facciale Filtrante antipolvere FFP2 con aggiunta di una valvola di espirazione per facilitare la respirazione. Protegge da particelle tossiche fini e fumi di saldatura leggeri. Impiego: Edilizia, agricoltura ed industria siderurgica (ferro ed acciaio).

P3

 Casella di testo: Facciale Filtrante antipolvere FFP3 per polveri tossiche, polveri radioattive leggere, batteri e virus. Impiego: Industria farmaceutica, industria siderurgica (ferro ed acciaio), edilizia ed industria nucleare.

P3v

 Casella di testo: Facciale Filtrante antipolvere FFP3 con aggiunta di valvola di espirazione per facilitare la respirazione. Protegge da polveri tossiche, polveri radioattive leggere, batteri e virus. Impiego: Industria farmaceutica, industria siderurgica (ferro ed acciaio), edilizia ed industria nucleare.